高温延伸装置

高分子フィルム用高温延伸装置仕様書

1.概要
本システムは高分子フィルムの試験片を室温から高温まで加熱しつつ、一定の力で引っ張り延伸しながらラマンスペクトルを測定し、高分子の構造変化を評価する装置です。ラマン測定に用いる装置は日本分光製NRS-2000(CCD付き)であり、顕微もしくはマクロラマン測定装置により、後方散乱方式で行います。使用するレーザー光源はアルゴンイオンレーザーを用い、488nmもしくは514.5nmを励起光として用います。

2.構成
本装置は試料を加熱・延伸するチャンバーと延伸するための荷重の検出部、温度制御のためのコントローラーから構成されます。

1)高温延伸チャンバ
a)加熱ステージ
b)延伸部

2)荷重検出部

3)温度コントローラー  MC-1000Y

3.各部の仕様
1)高温延伸チャンバ (図面を参照下さい)
a)加熱ステージ

温度範囲室温~350℃(ヒーター温度)
ヒーターセラミックヒーター使用
試料ステージ材質Ag
試料ステージサイズ24mm×32mm
有効サイズ10mm×14mm
開口部 直径4 mm
開口部窓材合成石英
試料雰囲気大気(なるべく湿度の低い条件)、不活性ガス
形状121mm×80mm  高さ 43mm
チャンバー材質アルミ合金 加工後アルマイト処理
重量約1kg
熱電対Type K
水冷100℃以上で使用する場合は、チャンバにもうけられた、水冷機構に水を流して使用すること。

b)延伸部
オリエンタルモーター株式会社製 スライダシリンダ使用
型式: SRL40B1-02C2T
仕様に関しては別紙資料を参照

2)荷重検出部
株式会社 共和電業社製 特型ロードセル使用

型式LUB-S―50NS18C
外径寸法別紙参照
定格容量50N
許容過負荷150%
定格出力約2mV/V
非直線性±0.05%RO(フルスケール)
ヒステリシス±0.05%RO
零点の温度影響±0.03%RO/℃
出力の温度影響±0.01%RO/℃
温度補償範囲-10~50℃
許容温度範囲-10~60℃
推奨印加電圧1~12V AC or DC
許容印加電圧20V AC or DC
入力抵抗345~460Ω
出力抵抗350±5Ω
初期不平衡±1mV/V
ケーブル0.05mm2 4芯 シールドクロロプレン 2m  外径 3mm 
その他防水性=防滴程度

3)温度コントローラ   MC-1000Y

温度設定範囲室温~+1000℃
設定精度0.1℃
熱電対Type K
温度制御方式デジタルPID制御
分解能1/30,000
定格電源AC 100V 50Hz
電源入力5A 500VA
外寸法幅260×奥行430×高177
重量約15kg

4.検収条件
1)温度範囲: Type K熱電対を使用して、室温 ~+350℃ まで、可変できること。(試料ステージに接続された熱電対からの温度測定とさせて頂きます。)
2)制御精度:設定温度が安定した状態で ±0.5℃以内に収まること。
3)延伸部が正常に機能すること
4)荷重検出部が正常に機能すること
5)ラマン測定が可能なこと

5.概略図

高分子フィルム用高温延伸装置 概略図

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